連續(xù)線式磁控濺射真空鍍膜設備主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計，提供全套設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。

設備特點：
1.設備采用真空磁控濺射技術，孿生陰極，中頻濺射技術，并配以先進的控制系統(tǒng) 。
2.生產(chǎn)過程全部自動，連續(xù)進行。被鍍工件加熱溫度最高可達350℃，溫度分區(qū)控制可調。
3.真空室材料采用SUS304，真空室內壁進行拋光處理，外壁采用拋光后噴漆處理。
4.真空室之間采用獨立門閥隔開，我們設計的是插板閥，可以有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。傳動采用磁導向，保障傳動的穩(wěn)定性。整條生產(chǎn)線的各段速度采用變頻調速電機驅動，運行速度可調節(jié)。